关键词：双氧水

行业：半导体

 

CT-1Plus电位滴定测定双氧水的浓度

摘要

双氧水在半导体行业中主要用作半导体晶体片的清洗剂、腐蚀剂和光刻胶的去除剂，用于电子工业制取高级绝缘层、去除电镀液中无机杂质，以及半导体材料制造工序的处理等，它的纯度对集成电路的成品率、电性能及可靠性都有着十分重要的影响。本例通过电位滴定法测定一种双氧水的浓度。

 

仪器配置

●CT-1Plus电位滴定仪

●ORP-101C电极

●20mL高精度计量管

●100mL滴定杯

 

试剂配置

●滴定剂：高锰酸钾标准溶液（1/5KMnO4）

●滴定度：0.1mol/L

●溶剂：纯水/1mol/L硫酸溶液

●其它试剂：硫酸锰

 

测定方法

●氧化还原滴定/电位滴定

●适量样品于干燥烧杯中，加入50mL 1mol/L硫酸溶液，0.5克硫酸锰，搅拌溶解

●将烧杯置于滴定台上，选择双氧水含量滴定方法，用高锰酸钾标准溶液滴定到终点

 

仪器参数

● 最小滴定体积：20μL  

● 最大滴定体积：100μL

● 搅拌速度：200        

● 每滴间隔：1000ms

● 终点模式：微分阈值判定   

● 微分设置：200

 

测试数据

● 环境温度：23℃ ● 环境湿度：50%  

● 测试时间：3min 

序号	样品量/g	终点体积/mL	含量结果/%	平均值/%
1	0.0270	4.3703	27.53	27.54
2	0.0273	4.4176	27.53
3	0.0328	5.3115	27.55

测试结果：经测试，双氧水的浓度约为27.54%。